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第353章 芯片研究的新进展（第2页）

就在刚才，经过实验室内部流片测试验证后表明，极芯四号的各个参数达到了预期设计的标准，性能比上一代的极芯3号翻了一倍，处理器最高频率达到2GhZ，运算能力达到阿美莉卡国低通公司主流芯片的水平。

而且，更让大伙感到高兴的是，香岛实验室的芯片制造小组，已经具备了小批量生产芯片的能力，虽然总体的良品率算下来低得可怜，但也是个巨大的进步。

给大家放了一天假后，香岛实验室芯片设计小组的成员，在王铭洋的鼓励下，满怀激情，正式开始极芯五号的设计。

五号的设计指标，依然是要在上一代的四号上，性能翻倍。

如果能在预期期限内完成，极芯五号流片生产时，运算能力将很有可能超越阿美莉卡国的低通芯片。

就当前的产品更新速度，低通公司一直以来都是一年更新迭代一次自己的产品，而香岛实验室，计划里是半年迭代一次。

另一边，在经过大量研究后，实验室芯片制造小组的研究人员已经掌握芯片制造设备的使用方法，可以小批量的生产芯片，只是良品率不高。

面对着半年后极芯五号可能要大批量生产的情况，香岛实验室总工林盛询问王铭洋指示下一步的工作方向，是继续研究提高良品率的生产方法，还是研究更高小尺寸的芯片加工制程。

当前实验室的加工制程是90纳米，跟当前国外的主流相差了几代。国外主流厂商，最具影响力的因特尔，2012年的cpU主流制程已经是22纳米。

王铭洋和香岛实验室的人，想要追上世界主流芯片制程的脚步，需要越过65纳米，45纳米，32纳米，这三个尺寸代差。

要想将芯片制造这块业务做好，不只需要在加工尺寸上努力，在良品率方面也不能落下。

以香岛实验室半导体研究部门当前的情况，制造90纳米制程的芯片，其设备加工能力已经差不多到了极限。

要想更进一步，除非是更换更新型号的光刻机，要不然很难提高刻蚀精度。

当然也可以采用多次曝光光刻的方法，但会导致良品率进一步下降，将本来就不高的成功率拉低到完全没有经济性的水平。

摸摸下巴，王铭洋跟山本耀司说道：

“优先研究二次曝光技术，提高制程精细度，良品率的事情先放一放。

我们先解决有无的问题，再解决好不好的问题。

同时，加大力度研究改进制造设备的方法，做好技术储备。

再一个，我会让人在国际上采购更新的半导体制造设备。

如果外国公司愿意卖的话，价格不是问题。

等极芯五号芯片研究出来，我们就可以自己生产，用在公司自有的产品上。

到时，极芯5号跟阿美莉卡国低通的芯片结合起来，可以提高产品核心的运算能力，让极智操作系统的响应速度更快。”

自从上次跟为华的仁总聊天知道他们公司的“影子计划”之后，王铭洋的内心时刻保留着一丝警觉，他觉得自己的公司也完全有必要来上一个类似的计划。

这几年，随着极智手机的突然崛起，阿美莉卡国的平果和欧洲的诺记亚以及泡菜国的四星手机，在华国中高端手机市场统统被斩于马下，它们所加起来的份额只有百分之十五，其余的都被极智手机给吃掉了。

面对这块吃不到嘴里的肥肉，难保阿美莉卡国平果公司后面的那些财团不会动歪脑筋，给极智科技下绊子，特别是关键零件供应这块。自己不得不防。

一边批复着公司的文件，王铭洋一边复盘着自己的“老六”计划。自从电子公司上市融到几千亿资金后，公司除了将大笔资金用于新技术的研究，投资部门也在国内投资了不少公司，帮助它们提高技术水平。

这些公司，绝大部分是极智科技的供应商或者是潜在供应商。